Кампанія C&K Semiconductor паспяхова наладзіла масавую вытворчасць 8-цалевых эпітаксіяльных пласцін SiC

Кампанія C&K Semiconductor Technology (Suzhou) Co., Ltd. абвясціла, што яе група даследаванняў і распрацовак паспяхова дасягнула гомаэпітаксіяльнага росту на айчыннай 8-цалевай (200 мм) падкладцы з карбіду крэмнію (SiC) і мае магчымасці для масавай вытворчасці 8-цалевых эпітаксіяльных пласцін SiC. Якасць 8-цалевых эпітаксіяльных пласцін SiC, вырабленых кампаніяй, дасягнула высокага міжнароднага ўзроўню, а выхад штампа 3 мм*3 мм дасягнуў больш за 97%.