Intel демонструє агресивну позицію в конкурентній боротьбі за 2-нм процес

Intel продемонструвала агресивну позицію в конкуренції за 2-нанометровий процес. Вона не тільки взяла на себе лідерство в придбанні літографічної машини ASML High NA EUV, але також планує застосувати інноваційну технологію джерела живлення. Ці ініціативи допоможуть Intel отримати лідируючі позиції в області 2-нанометрових процесів і сприятимуть подальшій реалізації своєї стратегії IDM2.0.