„Intel“ demonstruoja agresyvią poziciją 2 nm procesų konkurencijoje

„Intel“ demonstravo agresyvų požiūrį 2 nm procesų varžybose. Ji ne tik pirmavo įsigydama ASML „High NA EUV“ litografijos aparatą, bet ir planuoja pritaikyti naujovišką galinio maitinimo technologiją. Šios iniciatyvos padės „Intel“ įgyti lyderio poziciją 2 nm procesų srityje ir toliau skatins savo IDM2.0 strategijos įgyvendinimą.