تُظهر Intel موقفًا عدوانيًا في منافسة عملية 2 نانومتر

لقد أظهرت شركة Intel موقفًا عدوانيًا في منافسة عملية 2 نانومتر، فهي لم تأخذ زمام المبادرة في شراء آلة الطباعة الحجرية High NA EUV من ASML فحسب، بل تخطط أيضًا لاعتماد تقنية مبتكرة لإمدادات الطاقة الخلفية. ستساعد هذه المبادرات إنتل على اكتساب مكانة رائدة في مجال معالجة 2 نانومتر وتعزيز تنفيذ إستراتيجية IDM2.0 الخاصة بها.