اینتل در رقابت فرآیندهای 2 نانومتری موضع تهاجمی نشان می دهد
2 نانومتر
سهام شتر
Sagitar M2
که
EUV
این
و
ناور
نه
خود
نه
ASML
خرید
متر
استراتژی
فرآیند
دستگاه
پیشرو
پیشرو
فرآیند
فن
کمک
تنه
لیتوگرافی
دستگاه لیتوگرافی
لکه
کسب
دستگاه
پیشرو
منبع تغذیه
زمین
زمین
قاب
نه
قاب
مک
او
فی
این
به
2024-12-25 08:13
36
اینتل در رقابت فرآیند 2 نانومتری نگرش تهاجمی از خود نشان داده است. نه تنها در خرید دستگاه لیتوگرافی High NA EUV ASML پیشتاز شد، بلکه قصد دارد از فناوری نوآورانه منبع تغذیه استفاده کند. این ابتکارات به اینتل کمک می کند تا جایگاهی پیشرو در زمینه پردازش 2 نانومتری کسب کند و اجرای استراتژی IDM2.0 خود را بیشتر ارتقا دهد.
