Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. и Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd. си поделят Китайската награда за патентни постижения

0
Технологията „Метод за контрол на диаметъра на растежа на кристала, устройство, оборудване и компютърна среда за съхранение“, съвместно разработена от Xi'an Yisiwei Material Technology Co., Ltd. и Xi'an Yisiwei Silicon Wafer Technology Co., Ltd. им позволи съвместно да спечелят 25-та награда за отлични постижения в китайския патент. Успехът на този модел на сътрудничество предостави нови идеи за развитие на други компании в индустрията.