Weimai Core Materials (Hefei) Semiconductor Co., Ltd. legte den Grundstein für ein 100 Tonnen schweres jährliches Halbleiter-High-End-Fotolithografie-Materialprojekt

Am 26. März veranstaltete Weimax Core Materials (Hefei) Semiconductor Co., Ltd. in der Hefei Xinzhan High-Tech-Zone einen Spatenstich für ein jährliches 100-Tonnen-Halbleiter-High-End-Fotolithografie-Materialprojekt. Nach der Inbetriebnahme des Projekts wird es dazu beitragen, die lokale Versorgung mit wichtigen Fotolackmaterialien zu realisieren und einen wichtigen Einfluss auf die stabile Entwicklung der regionalen Industrie für integrierte Schaltkreise zu haben.