Johdatus fotolitografiakonetyyppeihin ja tärkeimpiin ASML-malleihin

Litografiakoneiden tyypit jaetaan pääasiassa I-line-, KrF-, ArF-kuivamenetelmä-, ArF-immersio- ja EUV-tyyppisiin. Niistä EUV on edistynein tyyppi. ASML:n päämalleja ovat: I-line XP 400/450-sarja, joka vastaa prosessia 300–500 nm:n KrF:n XT860/1060, joka vastaa prosessia 180–130 nm:n ArF-kuivaprosessia XT1400/1460/1700; Noin 0–65 nm:n ArF-upotetut XT1900- ja NXT-sarjat, mukaan lukien NXT1950/1965/1970/1980 ja NXT2000/2050/2100, vastaavat alle 45 nm:n prosesseja. EUV:n päämalli on NXE3400/3600, joka vastaa alle 7nm.