Inleiding tot fotolithografische machinetypes en de belangrijkste ASML-modellen

De soorten lithografiemachines zijn hoofdzakelijk onderverdeeld in I-line, KrF, ArF droge methode, ArF-onderdompelingstype en EUV. Onder hen is EUV het meest geavanceerde type. De belangrijkste modellen van ASML zijn: I-line XP 400/450-serie, overeenkomend met het proces van 300 ~ 500 nm; KrF's XT860/1060, overeenkomend met het proces van 180 ~ 130 nm; ArF droog proces XT1400/1460/1700, overeenkomend met procesknooppunt 13 Ongeveer 0 ~ 65 nm; ArF-ondergedompelde XT1900- en NXT-series, inclusief NXT1950/1965/1970/1980 en NXT2000/2050/2100, komen overeen met processen onder 45 nm. Het belangrijkste model van EUV is NXE3400/3600, wat overeenkomt met minder dan 7 nm.