Úvod do typů fotolitografických strojů a hlavních modelů ASML

Typy litografických strojů se dělí především na I-line, KrF, ArF suchou metodu, ArF imerzní typ a EUV. Mezi nimi je EUV nejpokročilejším typem. Mezi hlavní modely ASML patří: I-line XP řada 400/450, odpovídající procesu 300~500nm KrF's XT860/1060, odpovídající procesu 180~130nm suchý proces XT1400/1460/1700, odpovídající procesnímu uzlu 13; Kolem 0~65nm ponořené do ArF řady XT1900 a NXT, včetně NXT1950/1965/1970/1980 a NXT2000/2050/2100, odpovídají procesům pod 45nm. Hlavním modelem EUV je NXE3400/3600, což odpovídá pod 7nm.