Rapidus приобретает первую машину для литографии ASML EUV для продвижения 2-нм процесса производства полупроводников GAA

Компания Rapidus объявила, что первая приобретенная ею литографическая машина ASML TWINSCAN NXE:3800E доставлена ​​и установлена ​​на заводе IIM-1. Это первая в Японии система EUV-литографии для массового производства передовых полупроводников. Эта литографическая машина может удовлетворить производственные потребности первого поколения технологии массового производства 2 нм. По сравнению с предыдущей моделью NXE:3600D производительность пластин увеличилась на 37,5%.