Tower Semiconductor bringt neue 300-mm-Silizium-Photonik-Prozessstandard-Gießereiprodukte auf den Markt

Tower Semiconductor, ein israelischer Gießer für hochwertige analoge Halbleiterlösungen, hat kürzlich ein neues 300-mm-Silizium-Photonik-Prozessstandardprodukt (SiPho) auf den Markt gebracht. Dieser neue Prozess ergänzt die bestehende 200-mm-Plattform (PH18) von Tower, die bereits in Produktion ist, um Kunden fortschrittliche Lösungen zu bieten, um der wachsenden Nachfrage nach Hochgeschwindigkeits-Datenkommunikation in Datenkommunikationsanwendungen der nächsten Generation gerecht zu werden. Die neuen 300-mm-Produkte verfügen über überlegene Silizium-Wellenleiter und branchenführende verlustarme Siliziumnitrid-Wellenleiter. Die größere Wafergröße verbessert die Kompatibilität mit branchenüblichen OSAT-Plattformen (Outsourced Semiconductor Assembly and Test) und erleichtert gleichzeitig die nahtlose Integration mit elektronischen Komponenten, wodurch die Gesamteffizienz erhöht wird.