TSMC riporta un enorme risultato del processo a 3 nm di seconda generazione

TSMC ha riferito che stanno vedendo rendimenti "enormi" sulle specifiche del processo di seconda generazione a livello di 3 nm. Secondo l'azienda, la densità di difetti D0 di N3E è paragonabile a quella di N5, e corrisponde ai tassi di difetti dei nodi più vecchi nello stesso punto dei rispettivi cicli di vita. Ciò consente ai clienti all'avanguardia di TSMC, come Apple, di sfruttare i vantaggi dei nodi di processo migliorati in tempi relativamente brevi.