台積電採用多重曝光方法實現1.6nm製程

台積電在最新的研發進展中透露，透過採用多重曝光方法，公司已成功實現在現有的EUV光刻機上實現1.6nm製程的目標。這項突破性技術將為半導體產業帶來更高的生產效率和更低的成本。