Guosheng Company のシリコンベースの窒化ガリウムエピタキシャルウェーハが顧客に納品されました

最近、Guosheng Company はシリコン窒化ガリウム (GaN-on-Si) エピタキシャル ウェーハの開発に成功し、顧客への納品を完了しました。この製品は、第 55 回 CETC 研究所材料研究所のエピタキシャル グループによって開発され、主に集積回路チップおよび半導体ディスクリート デバイスに使用されます。