Uzņēmuma Guosheng Company silīcija bāzes gallija nitrīda epitaksiālās vafeles ir piegādātas klientiem

Nesen uzņēmums Guosheng veiksmīgi izstrādāja gallija nitrīdu uz silīcija (GaN-on-Si) epitaksiālajām plāksnēm un pabeidza piegādi klientiem. Šo izstrādājumu izstrādāja CETC 55. institūta Materiālu pētniecības institūta epitaksiālā grupa, un to galvenokārt izmanto integrālo shēmu mikroshēmām un pusvadītāju diskrētām ierīcēm.