Epitaksialne rezine iz galijevega nitrida na osnovi silicija podjetja Guosheng Company so bile dostavljene strankam

Pred kratkim je podjetje Guosheng uspešno razvilo epitaksialne rezine galijevega nitrida na siliciju (GaN-on-Si) in zaključilo dostavo kupcu. Ta izdelek je razvila epitaksialna skupina Inštituta za raziskovanje materialov 55. inštituta CETC in se uporablja predvsem za čipe integriranih vezij in polprevodniške diskretne naprave.