阿斯麥公佈新一代Hyper-NA EUV微影機技術藍圖

阿斯麥公佈了新一代Hyper-NA EUV光刻機的技術藍圖，目前處於開發早期階段。該公司前技術長Martin van den Brink表示，Hyper-NA EUV光刻機需改進光源系統，並將生產效率提升至每小時400至500片晶圓。