ASML, 차세대 Hyper-NA EUV 리소그래피 기계에 대한 기술 청사진 발표

ASML은 현재 개발 초기 단계에 있는 차세대 Hyper-NA EUV 리소그래피 기계에 대한 기술 청사진을 발표했습니다. 회사의 전 최고기술책임자(CTO)인 마틴 반 덴 브링크(Martin van den Brink)는 Hyper-NA EUV 리소그래피 기계는 광원 시스템을 개선하고 생산 효율성을 시간당 400~500개의 웨이퍼로 높여야 한다고 말했습니다.