ASML объявляет о технологическом проекте для литографической машины Hyper-NA EUV следующего поколения

ASML объявила о техническом проекте нового поколения литографической машины Hyper-NA EUV, которая в настоящее время находится на ранних стадиях разработки. Мартин ван ден Бринк, бывший технический директор компании, заявил, что машина для литографии Hyper-NA EUV нуждается в улучшении системы источников света и повышении эффективности производства до 400–500 пластин в час.