ASML ogłasza projekt technologiczny maszyny litograficznej Hyper-NA EUV nowej generacji

ASML ogłosił projekt techniczny nowej generacji maszyny litograficznej Hyper-NA EUV, która obecnie znajduje się we wczesnej fazie rozwoju. Martin van den Brink, były dyrektor ds. technologii w firmie, powiedział, że maszyna litograficzna Hyper-NA EUV musi ulepszyć system źródeł światła i zwiększyć wydajność produkcji do 400–500 płytek na godzinę.