ASML oznamuje technologický plán pre litografický stroj Hyper-NA EUV novej generácie

Spoločnosť ASML oznámila technický plán pre novú generáciu litografického stroja Hyper-NA EUV, ktorý je v súčasnosti v počiatočnom štádiu vývoja. Martin van den Brink, bývalý technologický riaditeľ spoločnosti, uviedol, že litografický stroj Hyper-NA EUV potrebuje zlepšiť systém svetelného zdroja a zvýšiť efektivitu výroby na 400 až 500 plátkov za hodinu.