ASML طرح فناوری نسل بعدی دستگاه لیتوگرافی Hyper-NA EUV را اعلام کرد

ASML طرح فنی نسل جدید دستگاه لیتوگرافی Hyper-NA EUV را اعلام کرده است که در حال حاضر در مراحل اولیه توسعه است. مارتین ون دن برینک، مدیر ارشد فناوری سابق این شرکت، گفت که دستگاه لیتوگرافی Hyper-NA EUV نیاز به بهبود سیستم منبع نور و افزایش راندمان تولید به 400 تا 500 ویفر در ساعت دارد.