ASML מכריזה על תוכנית טכנולוגית עבור מכונת הליטוגרפיה Hyper-NA EUV מהדור הבא

84
ASML הכריזה על המתווה הטכני לדור חדש של מכונת ליטוגרפיה Hyper-NA EUV, שנמצאת כעת בשלבי פיתוח מוקדמים. מרטין ואן דן ברינק, סמנכ"ל הטכנולוגיה לשעבר של החברה, אמר שמכונת הליטוגרפיה Hyper-NA EUV צריכה לשפר את מערכת מקור האור ולהגביר את יעילות הייצור ל-400 עד 500 פרוסות לשעה.