ASML kondig tegnologiebloudruk aan vir die volgende generasie Hyper-NA EUV litografiemasjien

ASML het die tegniese bloudruk vir 'n nuwe generasie Hyper-NA EUV litografiemasjien aangekondig, wat tans in die vroeë stadiums van ontwikkeling is. Martin van den Brink, die maatskappy se voormalige hooftegnologiebeampte, het gesê dat die Hyper-NA EUV-litografiemasjien die ligbronstelsel moet verbeter en die produksiedoeltreffendheid tot 400 tot 500 wafers per uur moet verhoog.