ASML აცხადებს ტექნოლოგიურ გეგმას შემდეგი თაობის Hyper-NA EUV ლითოგრაფიის აპარატისთვის

ASML-მ გამოაცხადა Hyper-NA EUV ლითოგრაფიული აპარატის ახალი თაობის ტექნიკური გეგმა, რომელიც ამჟამად განვითარების ადრეულ ეტაპზეა. მარტინ ვან დენ ბრინკმა, კომპანიის ყოფილმა ტექნიკურმა ოფიცერმა, თქვა, რომ Hyper-NA EUV ლითოგრაფიის აპარატს სჭირდება სინათლის წყაროს სისტემის გაუმჯობესება და წარმოების ეფექტურობის გაზრდა 400-დან 500 ვაფლამდე საათში.