三星與新思科技合作優化2nm工藝

三星電子宣布與新思科技（Synopsys）合作，共同優化其2nm製程技術。新思科技的AI驅動設計技術與協同優化（DTCO）解決方案將協助三星提升2nm製程的面積、效能與能源效率。預計三星將於明年開始量產2nm晶片。這一代製程採用了多橋-通道場效電晶體（MBCFET）架構，並引入了獨特的外延和整合製程。與現有FinFET製程相比，新製程使電晶體性能提高了11%至46%，變異性降低了26%，漏電現象減少了約50%。