Japanska Chuo Glass utvecklar ny teknologi för tillverkning av SiC-substrat

Japanska Chuo Glass Co., Ltd. meddelade nyligen att de framgångsrikt har utvecklat en ny teknik för tillverkning av kiselkarbidsubstrat (SiC). Fördelen med denna nya teknik är att den kan sänka kostnaderna och öka produktionen Jämfört med den traditionella sublimeringsmetoden med hög temperatur har vätskefasmetoden uppenbara fördelar vid tillverkning av SiC-substrat av stor storlek. Det förväntas att tillämpningen av ny teknik kan minska tillverkningskostnaden för substrat med mer än 10 % samtidigt som utbytet avsevärt förbättras. Japans Chuo Glass Co., Ltd. har inlett diskussioner med stora europeiska och amerikanska halvledarföretag, i syfte att låta kunderna använda SiC-substrat tillverkade med ny teknologi. Central Glass planerar att börja tillhandahålla prover till kunder redan sommaren 2024 och uppnå kommersialisering 2027-2028.