ASML prevede di lanciare apparecchiature litografiche avanzate Hyper-NA EUV

Secondo Chosun Ilbo, il produttore olandese di macchine per litografia ASML prevede di lanciare apparecchiature avanzate di litografia Hyper-NA EUV per processi inferiori a 1 nanometro nel 2030. Tuttavia, si prevede che ciascun dispositivo costerà più di 724 milioni di dollari, il che potrebbe vietare l’acquisto da parte delle fonderie di semiconduttori come TSMC, Samsung e Intel.