ASML plangt fortgeschratt Hyper-NA EUV Lithographieausrüstung ze lancéieren
ASR
Jo
EUV
Pro
Samsung
TSMC
ASML
Jo
Prozess
Apparat
Prozess
kascht
Lithographie
Hyper
Samsung
Prozess
kascht
Joer
verbidden
2030
Wéi
ASM
Nanometer
2024-07-02 22:00
75
Laut Chosun Ilbo plangt den hollännesche Lithographiemaschinn Hiersteller ASML fortgeschratt Hyper-NA EUV Lithographieausrüstung fir Prozesser ënner 1 Nanometer am Joer 2030 ze lancéieren. Wéi och ëmmer, all Apparat gëtt erwaart méi wéi $ 724 Milliounen ze kaschten, wat Halbleiter Schmelzen wéi TSMC, Samsung an Intel verbidden kann.
