ASML планирует выпустить современное оборудование для литографии Hyper-NA EUV

По словам Чосуна Ильбо, голландский производитель литографических машин ASML планирует выпустить передовое литографическое оборудование Hyper-NA EUV для процессов размером менее 1 нанометра в 2030 году. Однако ожидается, что каждое устройство будет стоить более 724 миллионов долларов, что может стать препятствием для таких заводов по производству полупроводников, как TSMC, Samsung и Intel.