ASML, gelişmiş Hyper-NA EUV litografi ekipmanını piyasaya sürmeyi planlıyor

Chosun Ilbo'ya göre Hollandalı litografi makinesi üreticisi ASML, 2030 yılında 1 nanometrenin altındaki işlemler için gelişmiş Hyper-NA EUV litografi ekipmanını piyasaya sürmeyi planlıyor. Ancak her cihazın maliyetinin 724 milyon dolardan fazla olması bekleniyor ve bu da TSMC, Samsung ve Intel gibi yarı iletken dökümhanelerini yasaklayabilir.