ASML planuje wprowadzenie na rynek zaawansowanego sprzętu litograficznego Hyper-NA EUV

Według Chosuna Ilbo, holenderski producent maszyn litograficznych ASML planuje wprowadzić na rynek w 2030 r. zaawansowany sprzęt litograficzny Hyper-NA EUV do procesów poniżej 1 nanometra. Oczekuje się jednak, że każde urządzenie będzie kosztować ponad 724 miliony dolarów, co może uniemożliwić produkcję takich odlewni półprzewodników, jak TSMC, Samsung i Intel.