ASML plánuje uviesť na trh pokročilé litografické vybavenie Hyper-NA EUV

Podľa Chosun Ilbo plánuje holandský výrobca litografických strojov ASML v roku 2030 uviesť na trh pokročilé litografické zariadenie Hyper-NA EUV pre procesy pod 1 nanometer. Očakáva sa však, že každé zariadenie bude stáť viac ako 724 miliónov dolárov, čo môže zakázať zlievarne polovodičov ako TSMC, Samsung a Intel.