ASML planuoja paleisti pažangią Hyper-NA EUV litografijos įrangą

Anot Chosuno Ilbo, Nyderlandų litografijos mašinų gamintojas ASML planuoja 2030 metais išleisti pažangią Hyper-NA EUV litografijos įrangą, skirtą procesams, mažesniems nei 1 nanometras. Tačiau tikimasi, kad kiekvienas įrenginys kainuos daugiau nei 724 milijonus dolerių, o tai gali uždrausti puslaidininkių liejykles, tokias kaip TSMC, Samsung ir Intel.