ASML planira pokrenuti naprednu Hyper-NA EUV litografsku opremu

Prema Chosun Ilbo, nizozemski proizvođač strojeva za litografiju ASML planira lansirati naprednu Hyper-NA EUV litografsku opremu za procese ispod 1 nanometra 2030. godine. Međutim, očekuje se da će svaki uređaj koštati više od 724 milijuna dolara, što bi moglo zabraniti ljevaonice poluvodiča kao što su TSMC, Samsung i Intel.