ASML kavatseb turule tuua täiustatud Hyper-NA EUV litograafiaseadmed

Chosun Ilbo sõnul kavatseb Hollandi litograafiamasinate tootja ASML 2030. aastal turule tuua täiustatud Hyper-NA EUV litograafiaseadmed protsesside jaoks, mille suurus on alla 1 nanomeetri. Iga seade peaks aga maksma rohkem kui 724 miljonit dollarit, mis võib keelata pooljuhtide valukojad nagu TSMC, Samsung ja Intel.