ASML merancang untuk melancarkan peralatan litografi Hyper-NA EUV termaju

75
Menurut Chosun Ilbo, pengeluar mesin litografi Belanda ASML merancang untuk melancarkan peralatan litografi Hyper-NA EUV termaju untuk proses di bawah 1 nanometer pada tahun 2030. Walau bagaimanapun, setiap peranti dijangka menelan kos lebih daripada $724 juta, yang mungkin melarang pengecoran semikonduktor seperti TSMC, Samsung dan Intel.