ASML គ្រោងនឹងដាក់ដំណើរការឧបករណ៍ Hyper-NA EUV lithography កម្រិតខ្ពស់

យោងតាមលោក Chosun Ilbo ក្រុមហ៊ុនផលិតម៉ាស៊ីន lithography របស់ប្រទេសហូឡង់ ASML គ្រោងនឹងដាក់ដំណើរការឧបករណ៍កម្រិតខ្ពស់ Hyper-NA EUV lithography សម្រាប់ដំណើរការក្រោម 1 nanometer ក្នុងឆ្នាំ 2030។ ទោះជាយ៉ាងណាក៏ដោយ ឧបករណ៍នីមួយៗត្រូវបានគេរំពឹងថានឹងមានតម្លៃជាង 724 លានដុល្លារ ដែលអាចហាមឃាត់រោងចក្រផលិត semiconductor ដូចជា TSMC, Samsung និង Intel ។