TSMC se 2nm-prosestegnologie vorder glad

TSMC beplan om volgende week proefproduksie van 2nm-prosesskyfies by sy fabriek in Baoshan, Hsinchu te begin, 'n kwart voor markverwagtinge. Proefproduksie sal toetsing van die vereiste toerusting en komponente insluit, wat vanaf die tweede kwartaal geïnstalleer is. TSMC het gesê dat in vergelyking met 3nm, kan die 2nm-proses werkverrigting met 10% tot 15% verbeter en kragverbruik met tot 30% verminder. TSMC sal die GAA nanosheet-transistorstruktuur toepas vanaf die 2nm-proses en agterkantkragtoevoer (BSPR)-tegnologie bekendstel, en sal na verwagting in 2026 met massaproduksie begin.