Shanghai Silicon Industry plant Investitionen in den Bau eines 300-mm-Siliziumwafer-Kapazitätserweiterungsprojekts für integrierte Schaltkreise

Shanghai Silicon Industry gab bekannt, dass es in ein Projekt zur Erweiterung der Produktionskapazität von 300-mm-Silizium-Wafern für integrierte Schaltkreise investieren will; die geschätzte Gesamtinvestition beläuft sich auf rund 13,2 Milliarden RMB. Das Projekt ist in zwei Teile gegliedert: das Taiyuan-Projekt und das Shanghai-Projekt. Shanghai Silicon Industry wird über seine hundertprozentige Tochtergesellschaft Shanghai Xinsheng oder deren Tochtergesellschaften gemeinsam mit dem National Big Fund Phase II, Taiyuan Fenshui Capital Management Co., Ltd. oder deren Tochtergesellschaften investieren, um eine Holding-Tochtergesellschaft, Taiyuan Jinke Silicon Materials Technology Co., Ltd., zu gründen, um das Taiyuan-Projekt umzusetzen und die Produktionskapazität von 300-mm-Silizium-Wafern für integrierte Schaltkreise zu steigern. Am 15. Juli wurde Taiyuan Jinke Silicon Materials Technology Co., Ltd. mit einem eingetragenen Kapital von 5,5 Milliarden RMB offiziell gegründet. Das Unternehmen ist im gemeinsamen Besitz von drei Großaktionären, darunter National Integrated Circuit Industry Investment Fund II Co., Ltd., Taiyuan Jinke Semiconductor Technology Co., Ltd. und Taiyuan Fenshui Capital Management Co., Ltd.