Intel的「IDM 2.0」策略

Intel公司的“IDM 2.0”战略旨在通过技术创新和工艺提升，重塑Intel在全球半导体产业的领导地位。这个战略包括引入High NA EUV光刻机，这是一种最先进的芯片制造设备，可以显著提高芯片的性能和晶体管密度。Intel计划在2027年前将High NA EUV技术用于商业生产，并在2030年前实现代工业务的收支平衡。