Intels "IDM 2.0"-strategi
Saida Semiconductor
2027
De
EUV
De
prestanda
strategi
tillverkning
transistor
densitet
utrustning
maskin
ringa
duk
2030
industri
2024-08-07 15:10
304
Intels "IDM 2.0"-strategi syftar till att omforma Intels ledarskap inom den globala halvledarindustrin genom teknisk innovation och processförbättringar. Denna strategi inkluderar introduktionen av High NA EUV litografimaskiner, en toppmodern chiptillverkningsutrustning som avsevärt kan förbättra chipprestandan och transistordensiteten. Intel planerar att sätta High NA EUV-teknik i kommersiell produktion till 2027 och nå break-even i sin gjuteriverksamhet till 2030.
