La estrategia “IDM 2.0” de Intel

La estrategia "IDM 2.0" de Intel tiene como objetivo reformular el liderazgo de Intel en la industria global de semiconductores a través de la innovación tecnológica y la mejora de procesos. Esta estrategia incluye la introducción de máquinas de litografía EUV de alta NA, un equipo de fabricación de chips de última generación que puede mejorar significativamente el rendimiento del chip y la densidad del transistor. Intel planea utilizar la tecnología High NA EUV para la producción comercial en 2027 y alcanzar el punto de equilibrio en su negocio de fundición en 2030.