Intels "IDM 2.0"-strategi
2027
De
EUV
De
del
chip
ytelse
tog
virksomhet
strategi
produksjon
transistor
tetthet
utstyr
maskin
utstyr
halvleder
2030
industri
2024-08-07 15:10
304
Intels "IDM 2.0"-strategi har som mål å omforme Intels lederskap i den globale halvlederindustrien gjennom teknologisk innovasjon og prosessforbedring. Denne strategien inkluderer introduksjonen av High NA EUV litografimaskiner, et toppmoderne chipproduksjonsutstyr som kan forbedre chipytelsen og transistortettheten betydelig. Intel planlegger å sette High NA EUV-teknologi i kommersiell produksjon innen 2027 og oppnå break-even i støperivirksomheten innen 2030.
