Стратегия Intel «IDM 2.0»

Стратегия Intel «IDM 2.0» направлена ​​на укрепление лидерских позиций Intel в мировой полупроводниковой отрасли за счет технологических инноваций и совершенствования процессов. Эта стратегия включает внедрение машин для литографии EUV с высокой числовой апертурой — современного оборудования для производства микросхем, которое может значительно повысить производительность микросхем и плотность размещения транзисторов. Intel планирует внедрить технологию High NA EUV в коммерческое производство к 2027 году и достичь безубыточности в своем литейном бизнесе к 2030 году.