Intel'in "IDM 2.0" stratejisi

Intel'in "IDM 2.0" stratejisi, teknolojik yenilik ve süreç iyileştirmeleri yoluyla Intel'in küresel yarı iletken sektöründeki liderliğini yeniden şekillendirmeyi amaçlıyor. Bu strateji, çip performansını ve transistör yoğunluğunu önemli ölçüde artırabilen son teknoloji çip üretim ekipmanı olan Yüksek NA EUV litografi makinelerinin tanıtımını içeriyor. Intel, High NA EUV teknolojisini 2027 yılına kadar ticari üretime sokmayı ve 2030 yılına kadar da dökümhane işinde zarar etmemeyi planlıyor.