Strategia „IDM 2.0” firmy Intel

Strategia firmy Intel „IDM 2.0” ma na celu przekształcenie wiodącej pozycji firmy Intel w światowym przemyśle półprzewodników poprzez innowacje technologiczne i udoskonalanie procesów. Strategia ta obejmuje wprowadzenie maszyn litograficznych High NA EUV, najnowocześniejszego sprzętu do produkcji układów scalonych, który może znacznie poprawić wydajność układów scalonych i gęstość tranzystorów. Firma Intel planuje wprowadzić technologię High NA EUV do produkcji komercyjnej do 2027 r. i osiągnąć próg rentowności w swojej działalności odlewniczej do 2030 r.