Stratégia Intelu „IDM 2.0“.

Stratégia Intelu „IDM 2.0“ sa zameriava na pretvorenie vedúcej pozície Intelu v globálnom polovodičovom priemysle prostredníctvom technologických inovácií a zlepšovania procesov. Táto stratégia zahŕňa zavedenie vysoko NA EUV litografických strojov, najmodernejšieho zariadenia na výrobu čipov, ktoré môže výrazne zlepšiť výkon čipu a hustotu tranzistorov. Intel plánuje do roku 2027 využívať technológiu High NA EUV na komerčnú výrobu a do roku 2030 dosiahnuť prelomovú hranicu vo svojom zlievarenskom biznise.