Strategie Intelu „IDM 2.0“.

Strategie Intelu „IDM 2.0“ si klade za cíl přetvořit vedoucí postavení Intelu v globálním polovodičovém průmyslu prostřednictvím technologických inovací a zlepšování procesů. Tato strategie zahrnuje zavedení litografických strojů High NA EUV, což je nejmodernější zařízení na výrobu čipů, které může výrazně zlepšit výkon čipů a hustotu tranzistorů. Intel plánuje uvést technologii High NA EUV do komerční výroby do roku 2027 a do roku 2030 dosáhnout ve svém slévárenském podnikání zlomu.